1 हीटिंग जोन चुंबकीय सामग्री के लिए ऊर्ध्वाधर लिफ्ट फर्नेस

यह उपकरण मुख्य रूप से इलेक्ट्रॉनिक सिरेमिक सामग्री, चुंबकीय सामग्री, सिरेमिक फिल्टर आदि के लिए डिज़ाइन किया गया है, जिसमें तापमान क्षेत्र की उच्च एकरूपता या बहु-प्रजाति छोटे बैच उत्पादन अवसरों की आवश्यकता होती है।

• प्रभावी चैंबर आकार: 500×500×500mm (D×H×W)
• कुल आयाम (संदर्भ): 1740×2780×2505mm
• तापमान रेंज: 1600°C - 1700°C
• हीटिंग तत्व: यू-आकार की सिलिकॉन मोलिब्डेनम रॉड (MoSi2)
• हीटिंग ज़ोन: 1 ज़ोन
• इन्सुलेशन सामग्री: एल्यूमिना उत्पाद / सिरेमिक फाइबर सामग्री
• वायुमंडल: स्वच्छ, सूखा, तेल मुक्त संपीड़ित हवा / ऑक्सीजन
• नियंत्रण बिंदु: 1 बिंदु
• तापमान नियंत्रक: दहुआ चिनो इंटेलिजेंट पीआईडी ​​रेगुलेटर
• बिजली की आपूर्ति: 220/380V एसी, 50 हर्ट्ज
• अधिकतम शक्ति: 50kW
• उपकरण वजन: लगभग। 2000 किग्रा
• बाहरी आयाम: 1740×2780×2505mm(D×W×H) (नियंत्रण कैबिनेट के बिना)
• उपस्थिति का रंग: हल्का धूसर

• पर्यावरण की स्थिति: तापमान: 0~40ºC, आर्द्रता≤ 80%RH, कोई संक्षारक गैस नहीं, कोई मजबूत वायु प्रवाह अशांति नहीं
• वायुमंडलीय स्थितियाँ: सूखी, साफ, तेल मुक्त संपीड़ित हवा, 0.2-0.4MPa का कार्यशील दबाव, 10 - 30 m3/h की गैस खपत
• वेंटिलेशन सिस्टम: उपयोगकर्ता पंपिंग सिस्टम तक गैर-संपर्क पहुंच, पंपिंग क्षमता 35 m3/h से अधिक है
• ग्राउंड आवश्यकताएँ: क्षैतिज, कोई स्पष्ट कंपन नहीं, भार वहन> 600 किग्रा/मी2
• पावर कंडीशन(TBD): क्षमता > 70kVA, 3-चरण 5-लाइन, वोल्टेज 220 / 380V, आवृत्ति 50Hz। फायर लाइन: पीला, हरा, लाल, शून्य रेखा: नीला, ग्राउंड लाइन: पीला-हरा
• स्थापना स्थल: 3800mm×2650mm×3500mm(D×W×H), 12m2 से अधिक का स्थापना क्षेत्र के साथ

कंपनी प्रोफाइल

हेफ़ेई चिथर्म उपकरण कं, लिमिटेड एक उन्नत उपकरण आपूर्तिकर्ता है जो उच्च-, मध्यम-, और निम्न-तापमान औद्योगिक भट्टियों और प्रयोगशाला भट्टियों के अनुसंधान और विकास, डिजाइन, निर्माण, बिक्री, रखरखाव और सेवा में विशेषज्ञता रखता है।

इसके उत्पाद रेंज में बेल फर्नेस, बॉक्स फर्नेस, हॉट एयर फर्नेस, वैक्यूम फर्नेस, ट्यूब फर्नेस, मेश बेल्ट फर्नेस, बोगी हेर्थ फर्नेस, रोटरी फर्नेस, रोलर हेर्थ फर्नेस और पुशर फर्नेस शामिल हैं, जो उन्नत सिरेमिक, इलेक्ट्रॉनिक घटक, मोटी फिल्म सर्किट, एडिटिव मैन्युफैक्चरिंग, पाउडर धातु विज्ञान, नई ऊर्जा और फोटोवोल्टिक्स जैसे क्षेत्रों में व्यापक रूप से लागू होते हैं।

ये भट्टियाँ ITO लक्ष्यों, MLCC/HTCC/LTCC, सिरेमिक फिल्टर, चुंबकीय सामग्री, CIM/MIM, और लिथियम बैटरी कैथोड और एनोड के साथ-साथ प्री-सिंटरिंग, डि वैक्सिंग, डीग्रेज़िंग, सिंटरिंग, सुखाने, हीट ट्रीटमेंट, क्योरिंग और सेरामाइजेशन जैसी विभिन्न अन्य नई सामग्री प्रक्रियाओं सहित सामग्रियों की थर्मल ट्रीटमेंट प्रक्रियाओं के लिए उपयुक्त हैं।