500×700×550 Grote vacuümoven HPF190-03N Industriële droogapparatuur

Chitherm Hpf190-03n Vacuümdroger Elektrische warmhoudoven 755 mm * 1680 mm * 950 mm B * H * D voor veelzijdige droogtoepassingen

Hoofdzakelijk gebruikt voor het drogen, ontbinden en uitharden van elektronische componenten in vacuüm- of gecontroleerde atmosfeeromgevingen.

• 2.1 Bedrijfstemperatuur: RT~200°C
• 2.2 Maximale temperatuur: 250°C
• 2.3 Materiaal ovenkamer: SUS304 roestvrij staal
• 2.4 Isolatiemateriaal: keramische vezels
• 2.5 Kamerafmetingen: 500 mm * 700 mm * 550 mm (B * H * D)
• 2.6 Temperatuuruniformiteit: Uniformiteit van de oppervlaktetemperatuur van verwarmingsplaten: binnen ±5°C (getest bij een constante temperatuur van 200°C)
• 2.7 Verwarmingselementen: Aluminium verwarmingsplaten
• 2.8 Aantal verwarmingsplaten: 4
• 2.9 Maximaal verwarmingsvermogen: 4*1,5 kW
• 2.10 Verwarmingssnelheid: ≤5°C/min
• 2.11 Temperatuurregelelement: platinabestendigheid (PT100)
• 2.12 Temperatuurcontrolepunten: 4 punten
• 2.13 Methode voor temperatuurregeling: Cyclus-nuldoorgangscontrole
• 2.14 Gecentraliseerde bediening: touchscreen + PLC gecentraliseerde bediening
• 2.15 Nauwkeurigheid temperatuurregeling: ±1°C
• 2.16 Uiteindelijk vacuüm: ≤50Pa
• 2.17 Vacuümpomptijd: ≤30 minuten (van atmosferische druk tot 0,1 mbar)
• 2,18 Kamerdrukweerstand: 0,1 ~ 1 mbar (bedienbaar onder vacuüm of atmosferische druk)
• 2.19 Vacuümalarm: activeert een alarm en schakelt de vacuümpomp uit als het vooraf ingestelde vacuümniveau niet binnen de opgegeven tijd wordt bereikt
• 2.20 Alarmbeveiligingen: hoorbare/visuele alarmen voor te hoge temperatuur, overbelasting van de motor en falen van fase-omkering
• 2.21 Geluidsniveau: ≤63dB
• 2.22 Buitenafwerking: Hoge temperatuur spuitcoating, lichtgrijs
• 2.23 Algemene afmetingen (referentie): 755 mm * 1680 mm * 950 mm (B * H * D)

• 4.1 Omgevingsomstandigheden: temperatuur 0~40°C, vochtigheid ≤80% RH, geen corrosieve gassen, geen sterke verstoringen van de luchtstroom
• 4.2 Vereisten voor gaslevering:
  • Zeer zuivere stikstof (procesbeschermgas): Zuiverheid >99,999%, inlaatdruk 0,1 ~ 0,2 MPa
  • Droge, schone, olievrije perslucht (spoelgas): inlaatdruk 0,4 ~ 0,8 MPa
• 4.3 Ventilatiesysteem: Contactloze aansluiting op het afzuigsysteem van de gebruiker, afzuigcapaciteit >10m³/h
• 4.4 Vloervereisten: vlakke ondergrond, minimale trillingen, draagvermogen >200kg/m²
• 4.5 Voeding: Capaciteit >8kVA, driefasig vijfdraadssysteem, AC380V, 50Hz
• 4.6 Installatieruimte: 2000 mm * 2000 mm * 3000 mm (diepte * breedte * hoogte), installatiegebied> 4 m²

Hefei Chitherm Equipment Co., Ltd. is een professionele onderneming die zich bezighoudt met onderzoek en ontwikkeling, ontwerp, productie, verkoop, onderhoud en service van industriële ovens met hoge, gemiddelde en lage temperatuur en experimentele ovens.

Onze producten omvatten klokovens, doosovens, heteluchtdrogers, buisovens, vacuümovens, trolleyovens en roterende ovens. Deze worden allemaal op grote schaal gebruikt in wetenschappelijk onderzoek en experimenten op het gebied van geavanceerde keramiek, additieve productie, poedermetallurgie, nieuwe energie en andere gebieden. Geschikt voor de extrusie, het sinterproces van magnetische materialen, honingraatkeramiek, aluminiumoxide-keramiek, zirkoniumoxide-keramiek, CIM/MIM en positieve en negatieve elektrodematerialen van lithiumbatterijen, evenals diverse andere nieuwe materialen zoals voorbakken, extrusie, ontvetten, bakken, drogen, meebakken, nabakken, solderen, uitharden, keramische metallisatie, enz.

Wij dringen aan op een verantwoordelijke houding ten opzichte van klanten en bieden producten en diensten van hoge kwaliteit. Het is juist dankzij de steun, het begrip en het vertrouwen van onze klanten en vrienden dat onze productiecapaciteiten voor intelligente apparatuur blijven verbeteren. Wij zijn bereid met klanten samen te werken om de snelle ontwikkeling van elektronica en geavanceerde materialen over de hele wereld te ondersteunen.