500×700×550 대용량 진공 오븐 HPF190-03N 산업용 건조장비

다양한 건조 응용 분야를 위한 Chitherm Hpf190-03n 진공 건조기 전기 유지로 755mm*1680mm*950mm W*H*D

진공 또는 제어된 대기 환경에서 전자 부품의 건조, 탈지 및 경화에 주로 사용됩니다.

• 2.1 작동 온도: RT~200°C
• 2.2 최대 온도: 250°C
• 2.3 퍼니스 챔버 재질: SUS304 스테인레스 스틸
• 2.4 절연재: 세라믹 섬유
• 2.5 챔버 크기: 500mm*700mm*550mm(W*H*D)
• 2.6 온도 균일성 : 가열판 표면 온도 균일성 : ±5°C 이내 (항온 200°C에서 테스트)
• 2.7 가열 요소: 알루미늄 가열판
• 2.8 가열판 수: 4
• 2.9 최대 가열 전력: 4*1.5kW
• 2.10 가열 속도: ≤5°C/min
• 2.11 온도 조절 요소: 백금 저항(PT100)
• 2.12 온도조절점 : 4점
• 2.13 온도 제어 방식: 사이클 제로 크로싱 제어
• 2.14 중앙 집중식 제어: 터치 스크린 + PLC 중앙 집중식 제어
• 2.15 온도 조절 정확도: ±1°C
• 2.16 궁극적인 진공: ≤50Pa
• 2.17 진공 펌핑 시간: 30분 이하(대기압에서 0.1mbar까지)
• 2.18 챔버 압력 저항: 0.1~1mbar(진공 또는 대기압에서 작동 가능)
• 2.19 진공 경보: 지정된 시간 내에 미리 설정된 진공 수준에 도달하지 않으면 경보를 울리고 진공 펌프를 차단합니다.
• 2.20 경보 보호: 과열, 모터 과부하 및 위상 반전 오류에 대한 청각/시각 경보
• 2.21 소음 수준: ≤63dB
• 2.22 외부 마감: 고온 스프레이 코팅, 밝은 회색
• 2.23 전체 치수(참고): 755mm*1680mm*950mm(W*H*D)

• 4.1 환경 조건: 온도 0~40°C, 습도 ≤80% RH, 부식성 가스 없음, 강한 기류 방해 없음
• 4.2 가스 공급 요구 사항:
  • 고순도 질소(공정 보호가스): 순도 >99.999%, 입구 압력 0.1~0.2MPa
  • 건조하고 깨끗한 오일 프리 압축 공기(퍼지 가스): 입구 압력 0.4~0.8MPa
• 4.3 환기 시스템: 사용자 배기 시스템에 비접촉 연결, 배기 용량 >10m³/h
• 4.4 바닥 요구사항: 평평한 표면, 최소한의 진동, 하중 지지력 >200kg/m²
• 4.5 전원 공급 장치: 용량 >8kVA, 3상 5선 시스템, AC380V, 50Hz
• 4.6 설치 공간: 2000mm*2000mm*3000mm(깊이*너비*높이), 설치 면적 >4m²

Hefei Chitherm Equipment Co., Ltd.는 고온, 중온, 저온 산업용 용광로 및 실험용로의 연구 개발, 설계, 제조, 판매, 유지 관리 및 서비스에 종사하는 전문 기업입니다.

당사의 제품에는 벨 퍼니스, 상자 퍼니스, 열풍 건조기, 튜브 퍼니스, 진공 퍼니스, 트롤리 퍼니스 및 회전 퍼니스가 포함됩니다. 이 모든 것은 첨단 세라믹, 적층 제조, 분말 야금, 신에너지 및 기타 분야의 과학 연구 및 실험에 널리 사용됩니다. 자성 재료, 벌집 세라믹, 알루미나 세라믹, 지르코니아 세라믹, CIM/MIM, 리튬 배터리의 양극 및 음극 재료의 압출, 소결 공정뿐만 아니라 사전 소성, 압출, 탈지, 소성, 건조, 동시 소성, 사후 소성, 납땜, 경화, 세라믹 금속화 등과 같은 다양한 신소재에 적합합니다.

우리는 고객에 대한 책임 있는 태도를 고집하며 고품질의 제품과 서비스를 제공합니다. 우리의 지능형 장비 제조 역량이 지속적으로 향상되는 것은 바로 고객과 친구들의 지원, 이해 및 신뢰 때문입니다. 우리는 고객과 협력하여 전 세계 전자 및 첨단 소재의 급속한 발전을 지원하고자 합니다.