Forneau industriel modèle Hwf6630-10 Forneau de dépôt de vapeur chimique de type réservoir

Le four à dépôt en phase vapeur HWF6630-10 est conçu pour le traitement thermique à température moyenne des produits électroniques. Il prend en charge les processus de réaction en phase vapeur dans des atmosphères d'azote, d'acétylène et d'hydrogène, ainsi que les processus de frittage sous atmosphères protectrices. Équipé d'un système de surveillance informatique en temps réel, ce four est idéal pour les tests de processus de matériaux dans les environnements de recherche.

• Modèle :HWF6630-10
• Température de fonctionnement :750°C
• Température maximale :1000°C
• Taille effective de la chambre :Φ600×300mm (D×H)
• Élément chauffant :Chauffage interne avec des tubes chauffants en acier inoxydable
• Atmosphère de traitement :Azote, Hydrogène, Acétylène
• Méthode de chauffage :Chauffage en fibre céramique FEC
• Points de contrôle de la température :2
• Stabilité de la température :±1°C, avec fonction d'auto-réglage des paramètres PID
• Méthode de contrôle :Écran tactile + contrôle centralisé PLC
• Protection d'alarme :Alarmes sonores et visuelles en cas de surchauffe et de rupture de thermocouple
• Taux de chauffage :≤6°C/min
• Puissance de chauffage :16kW
• Exigences d'alimentation :3 phases 5 fils, 220/380V, 50Hz, capacité >22KVA

À propos de Hefei Chitherm Equipment Co., Ltd.

Nous sommes spécialisés dans la recherche, le développement et la fabrication de fours industriels et de laboratoire à haute, moyenne et basse température. Notre gamme de produits comprend divers types de fours largement utilisés dans les industries de la céramique avancée, des composants électroniques, de la métallurgie des poudres, des nouvelles énergies et du photovoltaïque.