Fornace industriale modello Hwf6630-10, Forno a deposizione chimica da vapore (CVD) di tipo a serbatoio

Il forno a deposizione di vapore HWF6630-10 è progettato per il trattamento termico a media temperatura di prodotti elettronici. Supporta processi di reazione in fase vapore in atmosfere di azoto, acetilene e idrogeno, nonché processi di sinterizzazione in atmosfere protettive. Dotato di un sistema di monitoraggio computerizzato in tempo reale, questo forno è ideale per i test di processo dei materiali in ambienti di ricerca.

• Modello: HWF6630-10
• Temperatura di Esercizio: 750°C
• Temperatura Massima: 1000°C
• Dimensione Effettiva della Camera: Φ600×300mm (D×H)
• Elemento Riscaldante: Riscaldamento interno con tubi riscaldanti in acciaio inossidabile
• Atmosfera di Processo: Azoto, Idrogeno, Acetilene
• Metodo di Riscaldamento: Riscaldatore in fibra ceramica FEC
• Punti di Controllo della Temperatura: 2
• Stabilità della Temperatura: ±1°C, con funzione di auto-tuning dei parametri PID
• Metodo di Controllo: Touch screen + controllo centralizzato PLC
• Protezione Allarme: Allarmi acustici e visivi per sovratemperatura e rottura della termocoppia
• Velocità di Riscaldamento: ≤6°C/min
• Potenza di Riscaldamento: 16kW
• Requisiti di Alimentazione: 3 fasi 5 fili, 220/380V, 50Hz, capacità >22KVA

Informazioni su Hefei Chitherm Equipment Co., Ltd.

Siamo specializzati nella ricerca, sviluppo e produzione di forni industriali e da laboratorio ad alta, media e bassa temperatura. La nostra gamma di prodotti comprende vari tipi di forni ampiamente applicati nelle industrie della ceramica avanzata, dei componenti elettronici, della metallurgia delle polveri, delle nuove energie e del fotovoltaico.