窒素制御大気の箱炉 陶磁フィルターシントリング 1000C

Chitherm MBF20-11N 雰囲気制御ボックス炉は、年間50セットの生産能力で、高温セラミックフィルター焼結用に設計されています。

主に電子部品およびセラミックフィルターの高温バインダー焼失および焼結プロセスに使用されます。

• 定格温度: 1000℃
• 最高温度: 1100℃
• 有効寸法: 330 × 200 × 330mm (W×H×D)
• 加熱方法: SiCロッド
• プロセス雰囲気: 窒素
• 温度制御安定性: ±1℃、PIDパラメータ自己調整機能付き
• 温度均一性: ±5℃より優れている (1000℃で2時間絶縁テスト)
• 熱電対: N型
• 温度制御ポイント: 3点
• 温度測定ポイント: 1点
• プロセスステップ: 4×16ステップ
• 酸素含有量: ≦ 20ppm + ガス供給酸素含有量
• 排気: 手動調整付き排気ポート1つ
• アラームシステム: 過熱、熱電対故障などの異常状態が発生した場合、音と光のアラーム保護が作動します
• 最大加熱電力: 12kW
• 絶縁電力: ≦ 5kW
• 表面温度上昇: ≦ 35℃
• 重量: 約650kg
• 炉の寸法: 約1300*1900*1160mm (W×H×D)
• 外観色: ライトグレー

• 環境条件: 温度0～40℃、湿度≦80%RH、腐食性ガスなし、強い気流の乱れなし
• プロセス空気条件: 99.999%純度窒素、圧力0.2～0.4Mpa、ガス消費量2～5m³/h
• 換気システム: ユーザーポンピングシステムへの非接触アクセス、ポンピング能力20m³/h以上
• 接地要件: 水平、明らかな振動なし、耐荷重>250Kg/m²
• 電源条件: 容量16kVA以上、3相5線、電圧220/380V、周波数50Hz
• 設置場所: 2000mm×2000mm×3000mm (W×H×D)、設置面積4m²以上