Hwf6630-10 Tipo Tanque Forno de Deposição em Fase Gasosa para Fins Experimentais

O forno de deposição a vapor tipo tanque HWF6630-10 foi projetado para tratamento térmico de produtos eletrônicos em temperatura média. Ele suporta processos de reação em fase vapor em atmosferas de nitrogênio, acetileno e hidrogênio, bem como processos de sinterização em atmosferas protetoras. Equipado com um sistema de monitoramento por computador em tempo real, este forno é ideal para testes de processos de materiais em ambientes de pesquisa.

• Modelo: HWF6630-10
• Temperatura de Operação: 750°C
• Temperatura Máxima: 1000°C
• Tamanho Efetivo da Câmara: Φ600×300mm (D×A)
• Elemento de Aquecimento: Aquecimento interno com tubos de aquecimento de aço inoxidável
• Atmosfera de Processamento: Nitrogênio, Hidrogênio, Acetileno
• Método de Aquecimento: Aquecedor de fibra cerâmica FEC
• Pontos de Controle de Temperatura: 2
• Estabilidade da Temperatura: ±1°C, com função de autoajuste de parâmetros PID
• Método de Controle: Tela sensível ao toque + controle centralizado PLC
• Proteção de Alarme: Alarmes sonoros e visuais para sobretemperatura e quebra do termopar
• Taxa de Aquecimento: ≤6°C/min
• Potência de Aquecimento: 16kW
• Requisitos de Energia: 3 fases 5 fios, 220/380V, 50Hz
• Dimensões Externas: 1185×1745×1780mm (L×A×P)

• Condições Ambientais: Temperatura 0~40°C, umidade ≤80% UR, sem gases corrosivos
• Requisitos do Piso: Nível, sem vibração significativa, capacidade de carga >500 kg/m²
• Requisitos de Energia: Capacidade >22 kVA, 3 fases 5 fios, 220/380V, 50Hz
• Espaço de Instalação: 1500 mm × 1500 mm × 3000 mm (P × L × A)