Horno de muffle de vacío vertical Tratamiento térmico del horno 1200c ODM

El horno de cámara de vacío CWF80-05 está diseñado para el tratamiento térmico a temperatura media de productos electrónicos,especializados en procesos de sinterización de materiales relacionados en atmósferas de nitrógeno o hidrógenoEl horno cuenta con un sistema de monitorización informática integral en tiempo real, lo que lo hace ideal para la prueba de procesos de materiales en instituciones de investigación.

• Modelo de producto:Las condiciones de las condiciones de ensayo
• Temperatura de funcionamiento:400 °C
• Temperatura máxima:500 °C
• Tamaño efectivo de la cámara:Las medidas de seguridad se aplicarán a los vehículos de las categorías M1 y M2 incluidos en el presente anexo.
• Elemento de calefacción:Banda térmica de Ni-Cr
• Atmosfera de procesamiento:El nitrógeno, el hidrógeno
• Método de enfriamiento:Pared exterior totalmente refrigerada por agua
• Control de la temperatura:3 puntos, 20 segmentos
• Estabilidad a temperatura:± 1°C con autoajuste PID
• Precisión de la temperatura:± 10°C
• Uniformidad de temperatura:± 5°C (probado a 400°C durante una hora)
• Protección de alarma:Temperatura excesiva, termopares rotos, baja presión del agua, vacío insuficiente
• Aumento de la temperatura de la superficie:≤ 35 °C
• Poder de diseño:30 kW
• Potencia instalada:Aproximadamente 50 kW
• Fuente de alimentación:> 70 kVA, 3 fases y 5 alambres, 220/380 V, 50 Hz
• Las dimensiones exteriores:Se aplicará el método de comprobación de las emisiones de gases de efecto invernadero en el caso de las emisiones de gases de efecto invernadero.
• Tasa de aumento de la presión:0.67 Pa/h
• Tipo de termopar:Tipo K