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HPF190-03N Vakuumofen, industrieller Niedertemperatur-Vakuumtrockenofen für wissenschaftliche Forschung und chemische Verwendung

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HPF190-03N Vakuumofen, industrieller Niedertemperatur-Vakuumtrockenofen für wissenschaftliche Forschung und chemische Verwendung

HPF190-03N Vacuum Oven, Industrial Low-Temperature Vacuum Drying Oven for Scientific Research and Chemical Use
HPF190-03N Vacuum Oven, Industrial Low-Temperature Vacuum Drying Oven for Scientific Research and Chemical Use HPF190-03N Vacuum Oven, Industrial Low-Temperature Vacuum Drying Oven for Scientific Research and Chemical Use HPF190-03N Vacuum Oven, Industrial Low-Temperature Vacuum Drying Oven for Scientific Research and Chemical Use HPF190-03N Vacuum Oven, Industrial Low-Temperature Vacuum Drying Oven for Scientific Research and Chemical Use

Großes Bild :  HPF190-03N Vakuumofen, industrieller Niedertemperatur-Vakuumtrockenofen für wissenschaftliche Forschung und chemische Verwendung

Produktdetails:
Herkunftsort: China
Markenname: Chitherm
Modellnummer: Hpf190-03n
Zahlung und Versand AGB:
Min Bestellmenge: 1
Preis: Verhandelbar
Verpackung Informationen: Maßgeschneidert
Lieferzeit: Maßgeschneidert
Zahlungsbedingungen: Maßgeschneidert
Versorgungsmaterial-Fähigkeit: Maßgeschneidert
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HPF190-03N Vakuumofen, industrieller Niedertemperatur-Vakuumtrockenofen für wissenschaftliche Forschung und chemische Verwendung

Beschreibung
Anwendungsspektrum: Industriell Typ: Elektrischer Warmhalteofen
Verwendung: Stahlformung Kraftstoff: elektrisch
Atmosphäre: Vakuum Wirksame Dimensionen: 500mm*700mm*550mm
Maximal Vakuumniveau: ≤ 50 PA Transportpaket: Holzverpackung
Spezifikation: 755mm*1680mm*950mm Warenzeichen: Chitherm
Herkunft: China Hs-Code: 8514101000
Versorgungsmaterial-Fähigkeit: 50 Sätze/Jahr Anpassung: Verfügbar
Zertifizierung: ISO Platzstil: Horizontal
Hervorheben:

Industrieherstellung von Vakuumöfen mit niedriger Temperatur

,

Vakuumtrockner für die wissenschaftliche Forschung

,

Vakuummuffelfernen mit chemischer Verwendung

HPF190-03N Vakuumofen, industrieller Niedertemperatur-Vakuumtrockenofen für wissenschaftliche Forschung und chemische Verwendung
In Bereichen wie der elektronischen Fertigung, der Forschung und Entwicklung neuer Materialien, der chemischen Verarbeitung und der wissenschaftlichen Erforschung werden Verfahren wie Materialtrocknung, Härtung,und Klebstoffentfernung äußerst hohe Anforderungen an die Ausrüstung hinsichtlich der TemperatursteuerungBei herkömmlichen Trocknungsgeräten gibt es häufig Probleme wie Materialoxidation, ungleichmäßige Erhitzung und unzureichender Feuchtigkeitsgehalt.Als hochleistungsfähiges Vakuumtrocknungsgerät für Industriezwecke, hat der Vakuumofen HPF190-03N wesentliche Vorteile wie präzise Temperaturkontrolle, gleichmäßige Heizung, hohe Vakuumdichtheit und hohe Energieeffizienz.Es eignet sich hervorragend für Verfahren wie die Niedertemperaturtrocknung, Vakuumthermung und Entgasung und Leimentfernung für Präzisionsmaterialien, die in verschiedenen Branchen als bevorzugte Ausrüstung für Präzisionswärmebehandlungen dienen.
Produktspezifikationen
Eigenschaft Wert
Anwendungsbereich Industrie
Typ Elektrische Haltemühle
Gebrauch Stahlguss
Brennstoff Elektrisch
Atmosphäre Vakuum
Wirksame Dimensionen 500mm*700mm*550mm
Maximaler Vakuum ≤ 50 PA
Transportpaket Holzverpackungen
Spezifikation 755mm*1680mm*950mm
Handelsmarke Chitherm
Ursprung China
HS-Code 8514101000
Versorgungsfähigkeit 50 Sets/Jahr
Anpassung Erhältlich
Zertifizierung ISO-Nummern
Stellenstil Horizontale
Beschreibung des Produkts

Chitherm Hpf190-03n Vakuumtrockner Elektrische Halteofen 755mm*1680mm*950mm W*H*D für vielseitige Trocknungsanwendungen

1Typische Anwendungen

Hauptsächlich zur Trocknung, Entbindung und Härtung elektronischer Komponenten in Vakuum- oder kontrollierter Atmosphäre verwendet.

Chitherm Hpf190-03n Vacuum Dryer front view Chitherm Hpf190-03n Vacuum Dryer side view
2. Parametermerkmale
  • 2.1 Betriebstemperatur: RT~200°C
  • 2.2 Höchsttemperatur: 250°C
  • 2.3 Material der Ofenkammer: SUS304 Edelstahl
  • 2.4 Dämmstoff: Keramikfaser
  • 2.5 Abmessungen der Kammer: 500 mm*700 mm*550 mm (W*H*D)
  • 2.6 Temperaturgleichheit: Oberflächentemperaturgleichheit der Heizplatten: innerhalb von ±5°C (bei konstanten Temperaturen von 200°C geprüft)
  • 2.7 Heizkörper: Heizplatten aus Aluminium
  • 2.8 Anzahl der Heizplatten: 4
  • 2.9 Höchstheizleistung: 4*1,5 kW
  • 2.10 Heizgeschwindigkeit: ≤ 5 °C/min
  • 2.11 Temperaturregelungselement: Platinwiderstand (PT100)
  • 2.12 Temperaturkontrollpunkte: 4 Punkte
  • 2.13 Temperaturregelungsmethode: Zyklus-Nullübergangsregelung
  • 2.14 Zentralsteuerung: Touchscreen + Zentralsteuerung durch PLC
  • 2.15 Temperaturregelungsgenauigkeit: ±1°C
  • 2.16 Endvakuum: ≤ 50 Pa
  • 2.17 Vakuumpumpenzeit: ≤30 Minuten (von dem Luftdruck bis 0,1mbar)
  • 2.18 Kammerdruckwiderstand: 0,1 bis 1mbar (unter Vakuum oder atmosphärischem Druck betrieben)
  • 2.19 Vakuumalarm: Triggiert einen Alarm und schaltet die Vakuumpumpe aus, wenn der vorgegebene Vakuumpegel nicht innerhalb der angegebenen Zeit erreicht wird.
  • 2.20 Alarmschutz: Hör-/Schau-Alarm bei Übertemperatur, Motorenüberlastung und Fehlschlag bei der Phasenumkehr.
  • 2.21 Geräuschpegel: ≤ 63 dB
  • 2.22 Außenveredelung: Hochtemperatur-Spraybeschichtung, hellgrau
  • 2.23 Gesamtmaße (Referenz): 755mm*1680mm*950mm (W*H*D)
3. Lieferungscheckliste
Kategorie Name Hauptinhalte Anzahl
Grundbestandteile Hauptbrennstätte
1 Einheit
Inspektionsbescheinigungen Zertifikate für erworbene Schlüsselkomponenten
1 Satz
Technische Unterlagen Benutzerhandbuch Technische Unterlagen für die erworbenen Schlüsselkomponenten usw. 1 Satz
Schlüsselkomponenten Heizplatten
4 Stück

Berührungsschirm
1 Einheit

Widerstandsvakuummessgerät
1 Einheit

Resistente Messröhre
1 Einheit
Ersatzteile Festkörperrelais (SSR)
1 Stück
4Normaler Betrieb der Ausrüstung
  • 4.1 Umgebungsbedingungen: Temperatur 0 ~ 40 °C, Luftfeuchtigkeit ≤ 80% RH, keine ätzenden Gase, keine starken Störungen des Luftstroms
  • 4.2 Gasversorgungsanforderungen:
    • Hochreiner Stickstoff (Prozessschutzgas): Reinheit > 99,999%, Einlassdruck 0,1 bis 0,2 MPa
    • Trockene, saubere und ölfreie Druckluft (Reinigungsgas): Einlassdruck 0,4 bis 0,8 MPa
  • 4.3 Lüftungssystem: Berührungsloser Anschluss an die Abgasanlage des Benutzers, Abgaskapazität > 10 m3/h
  • 4.4 Bodenanforderungen: Ebene, minimale Vibrationen, Tragfähigkeit > 200 kg/m2
  • 4.5 Stromversorgung: Kapazität > 8 kVA, dreiphasiges Fünfdrahtsystem, AC380V, 50 Hz
  • 4.6 Installationsfläche: 2000 mm*2000 mm*3000 mm (Tiefe*Breite*Höhe), Installationsfläche > 4 m2HPF190-03N Vakuumofen, industrieller Niedertemperatur-Vakuumtrockenofen für wissenschaftliche Forschung und chemische Verwendung 2

Kontaktdaten
Hefei Chitherm Equipment Co., Ltd

Ansprechpartner: zang

Telefon: 18010872860

Faxen: 86-0551-62576378

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