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HPF190-03N Forno a vuoto, forno di asciugatura a vuoto a bassa temperatura industriale per la ricerca scientifica e l'uso chimico

Rassegne del cliente
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HPF190-03N Forno a vuoto, forno di asciugatura a vuoto a bassa temperatura industriale per la ricerca scientifica e l'uso chimico

HPF190-03N Vacuum Oven, Industrial Low-Temperature Vacuum Drying Oven for Scientific Research and Chemical Use
HPF190-03N Vacuum Oven, Industrial Low-Temperature Vacuum Drying Oven for Scientific Research and Chemical Use HPF190-03N Vacuum Oven, Industrial Low-Temperature Vacuum Drying Oven for Scientific Research and Chemical Use HPF190-03N Vacuum Oven, Industrial Low-Temperature Vacuum Drying Oven for Scientific Research and Chemical Use HPF190-03N Vacuum Oven, Industrial Low-Temperature Vacuum Drying Oven for Scientific Research and Chemical Use

Grande immagine :  HPF190-03N Forno a vuoto, forno di asciugatura a vuoto a bassa temperatura industriale per la ricerca scientifica e l'uso chimico

Dettagli:
Luogo di origine: Cina
Marca: Chitherm
Numero di modello: Hpf190-03n
Termini di pagamento e spedizione:
Quantità di ordine minimo: 1
Prezzo: Negoziabile
Imballaggi particolari: Personalizzato
Tempi di consegna: Personalizzato
Termini di pagamento: Personalizzato
Capacità di alimentazione: Personalizzato
Contatto Ora chiacchieri

HPF190-03N Forno a vuoto, forno di asciugatura a vuoto a bassa temperatura industriale per la ricerca scientifica e l'uso chimico

descrizione
Gamma di applicazioni: Industriale tipo: Forno di mantenimento elettrico
Utilizzo: Modanatura in acciaio Carburante: elettrico
Atmosfera: Vuoto Dimensioni efficaci: 500mm*700mm*550mm
Livello massimo di vuoto: ≤ 50 PA Pacchetto di trasporto: imballaggio in legno
Specifica: 755mm*1680mm*950mm ((W*H*D) Marchio: Chitherm
Origine: Cina Codice Hs: 8514101000
Capacità di alimentazione: 50 insiemi/anno Personalizzazione: Disponibile
Certificazione: ISO Place Style: Orizzontale
Evidenziare:

forno sottovuoto industriale a bassa temperatura

,

forno di essiccazione sotto vuoto per la ricerca scientifica

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forno a muffola sotto vuoto per uso chimico

Forno sottovuoto HPF190-03N, forno di essiccazione sottovuoto industriale a bassa temperatura per ricerca scientifica e uso chimico
In campi quali la produzione elettronica, la ricerca e lo sviluppo di nuovi materiali, il trattamento chimico e la sperimentazione scientifica, processi quali l'essiccazione, l'indurimento e la rimozione della colla dei materiali impongono requisiti estremamente elevati alle apparecchiature in termini di precisione del controllo della temperatura, tenuta e uniformità del riscaldamento. Le apparecchiature di essiccazione convenzionali sono soggette a problemi quali l'ossidazione dei materiali, il riscaldamento non uniforme e un contenuto di umidità inferiore alla norma. In quanto dispositivo di essiccazione sotto vuoto di livello industriale ad alte prestazioni, il forno sotto vuoto HPF190-03N presenta vantaggi fondamentali tra cui controllo preciso della temperatura, riscaldamento uniforme, elevata tenuta del vuoto ed elevata efficienza energetica. È perfettamente adatto per processi come l'essiccazione a bassa temperatura, l'indurimento sotto vuoto, il degasaggio e la rimozione della colla per materiali di precisione, fungendo da attrezzatura preferita per procedure di trattamento termico di precisione in vari settori.
Specifiche del prodotto
Attributo Valore
Gamma di applicazioni Industriale
Tipo Forno di mantenimento elettrico
Utilizzo Stampaggio dell'acciaio
Carburante Elettrico
Atmosfera Vuoto
Dimensioni effettive 500 mm*700 mm*550 mm (L*A*P)
Livello massimo di vuoto ≤50PA
Pacchetto di trasporto Imballaggio in legno
Specifica 755 mm*1680 mm*950 mm (L*A*P)
Marchio Chitherm
Origine Cina
Codice SA 8514101000
Capacità di fornitura 50 insiemi/anno
Personalizzazione Disponibile
Certificazione ISO
Luogo di stile Orizzontale
Descrizione del prodotto

Forno di mantenimento elettrico dell'essiccatore sotto vuoto Chitherm Hpf190-03n 755mm*1680mm*950mm L*A*P per applicazioni di essiccazione versatili

1. Applicazioni tipiche

Utilizzato principalmente per l'essiccazione, il deceraggio e l'indurimento di componenti elettronici in ambienti sotto vuoto o ad atmosfera controllata.

Chitherm Hpf190-03n Vacuum Dryer front view Chitherm Hpf190-03n Vacuum Dryer side view
2. Caratteristiche dei parametri
  • 2.1 Temperatura operativa: RT~200°C
  • 2.2 Temperatura massima: 250°C
  • 2.3 Materiale della camera del forno: acciaio inossidabile SUS304
  • 2.4 Materiale isolante: fibra ceramica
  • 2.5 Dimensioni della camera: 500 mm*700 mm*550 mm (L*A*P)
  • 2.6 Uniformità della temperatura: Uniformità della temperatura superficiale delle piastre riscaldanti: entro ±5°C (testato a temperatura costante di 200°C)
  • 2.7 Elementi riscaldanti: Piastre riscaldanti in alluminio
  • 2.8 Numero di piastre riscaldanti: 4
  • 2.9 Potenza di riscaldamento massima: 4*1,5 kW
  • 2.10 Tasso di riscaldamento: ≤5°C/min
  • 2.11 Elemento di controllo della temperatura: resistenza al platino (PT100)
  • 2.12 Punti di controllo della temperatura: 4 punti
  • 2.13 Metodo di controllo della temperatura: controllo del ciclo al passaggio per lo zero
  • 2.14 Controllo centralizzato: Touch screen + controllo centralizzato PLC
  • 2.15 Precisione del controllo della temperatura: ±1°C
  • 2.16 Vuoto finale: ≤50Pa
  • 2.17 Tempo di pompaggio del vuoto: ≤30 minuti (dalla pressione atmosferica a 0,1 mbar)
  • 2.18 Resistenza alla pressione della camera: 0,1~1 mbar (utilizzabile sotto vuoto o pressione atmosferica)
  • 2.19 Allarme vuoto: attiva un allarme e spegne la pompa del vuoto se il livello di vuoto preimpostato non viene raggiunto entro il tempo specificato
  • 2.20 Protezioni allarmi: allarmi acustici/visivi per sovratemperatura, sovraccarico motore e guasto inversione di fase
  • 2.21 Livello di rumore: ≤63 dB
  • 2.22 Finitura esterna: rivestimento spray ad alta temperatura, grigio chiaro
  • 2.23 Dimensioni complessive (riferimento): 755 mm*1680 mm*950 mm (L*A*P)
3. Lista di controllo della consegna
Categoria Nome Contenuti principali Quantità
Componenti di base Unità principale del forno
1 unità
Certificati di ispezione Certificati per i componenti chiave acquistati
1 set
Documenti tecnici Manuale utente Documenti tecnici per i componenti chiave acquistati, ecc. 1 set
Componenti chiave Piastre riscaldanti
4 pezzi

Schermo tattile
1 unità

Vacuometro resistivo
1 unità

Tubo indicatore resistivo
1 unità
Pezzi di ricambio Relè a stato solido (SSR)
1 pezzo
4. Condizioni operative normali dell'apparecchiatura
  • 4.1 Condizioni ambientali: temperatura 0~40°C, umidità ≤80% RH, assenza di gas corrosivi, assenza di forti disturbi del flusso d'aria
  • 4.2 Requisiti di fornitura di gas:
    • Azoto ad elevata purezza (gas protettivo del processo): purezza >99,999%, pressione in ingresso 0,1~0,2MPa
    • Aria compressa secca, pulita e priva di olio (gas di spurgo): pressione di ingresso 0,4~0,8 MPa
  • 4.3 Sistema di ventilazione: collegamento senza contatto al sistema di scarico dell'utente, capacità di scarico >10 m³/h
  • 4.4 Requisiti del pavimento: superficie piana, vibrazioni minime, capacità di carico >200 kg/m²
  • 4.5 Alimentazione: capacità >8kVA, sistema trifase a cinque fili, AC380V, 50Hz
  • 4.6 Spazio di installazione: 2000 mm*2000 mm*3000 mm (profondità*larghezza*altezza), area di installazione >4m²HPF190-03N Forno a vuoto, forno di asciugatura a vuoto a bassa temperatura industriale per la ricerca scientifica e l'uso chimico 2

Dettagli di contatto
Hefei Chitherm Equipment Co., Ltd

Persona di contatto: zang

Telefono: 18010872860

Fax: 86-0551-62576378

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