HPF190-03N 진공 오븐, 과학 연구 및 화학 용용 산업용 저온 진공 건조 오븐

다양한 건조 응용 분야를 위한 Chitherm Hpf190-03n 진공 건조기 전기 유지로 755mm*1680mm*950mm W*H*D

진공 또는 제어된 대기 환경에서 전자 부품의 건조, 탈지 및 경화에 주로 사용됩니다.

• 2.1 작동 온도: RT~200°C
• 2.2 최대 온도: 250°C
• 2.3 퍼니스 챔버 재질: SUS304 스테인레스 스틸
• 2.4 절연재: 세라믹 섬유
• 2.5 챔버 크기: 500mm*700mm*550mm(W*H*D)
• 2.6 온도 균일성 : 가열판 표면 온도 균일성 : ±5°C 이내 (항온 200°C에서 테스트)
• 2.7 가열 요소: 알루미늄 가열판
• 2.8 가열판 수: 4
• 2.9 최대 가열 전력: 4*1.5kW
• 2.10 가열 속도: ≤5°C/min
• 2.11 온도 조절 요소: 백금 저항(PT100)
• 2.12 온도조절점 : 4점
• 2.13 온도 제어 방식: 사이클 제로 크로싱 제어
• 2.14 중앙 집중식 제어: 터치 스크린 + PLC 중앙 집중식 제어
• 2.15 온도 조절 정확도: ±1°C
• 2.16 궁극적인 진공: ≤50Pa
• 2.17 진공 펌핑 시간: 30분 이하(대기압에서 0.1mbar까지)
• 2.18 챔버 압력 저항: 0.1~1mbar(진공 또는 대기압에서 작동 가능)
• 2.19 진공 경보: 지정된 시간 내에 미리 설정된 진공 수준에 도달하지 않으면 경보를 울리고 진공 펌프를 차단합니다.
• 2.20 경보 보호: 과열, 모터 과부하 및 위상 반전 오류에 대한 청각/시각 경보
• 2.21 소음 수준: ≤63dB
• 2.22 외부 마감: 고온 스프레이 코팅, 밝은 회색
• 2.23 전체 치수(참고): 755mm*1680mm*950mm(W*H*D)

• 4.1 환경 조건: 온도 0~40°C, 습도 ≤80% RH, 부식성 가스 없음, 강한 기류 방해 없음
• 4.2 가스 공급 요구 사항:
  • 고순도 질소(공정 보호가스): 순도 >99.999%, 입구 압력 0.1~0.2MPa
  • 건조하고 깨끗한 오일 프리 압축 공기(퍼지 가스): 입구 압력 0.4~0.8MPa
• 4.3 환기 시스템: 사용자 배기 시스템에 비접촉 연결, 배기 용량 >10m³/h
• 4.4 바닥 요구사항: 평평한 표면, 최소한의 진동, 하중 지지력 >200kg/m²
• 4.5 전원 공급 장치: 용량 >8kVA, 3상 5선 시스템, AC380V, 50Hz
• 4.6 설치 공간: 2000mm*2000mm*3000mm(깊이*너비*높이), 설치 면적 >4m²