電動真空マフル炉 実験室用アニールデカルブライゼーション用

1650*1950*2000mm W*H*DのChitherm Hwf160-10nh電気真空炉と高度な技術

この炉は、金属部品のハンダ付けプロセスとHTCCパッケージ用に設計されており、脱炭、アニーリング、焼入れ、焼成、硬化、熱分解などの他のプロセスにも使用できます。

• 定格温度：900℃
• 最高温度：1100℃
• 雰囲気：N2、H2、加湿あり
• 酸素含有量：O2含有量分析器で測定
• マッフル材質：SUS 310S
• マッフル寸法：φ750mm×900mm(d×D)
• 有効チャンバー寸法：500×500×650mm(W×H×D)
• ローディング方法：水平ガイドウェイ棚による手動
• 加熱方法：抵抗線内蔵加熱プレート
• 冷却方法：ブロワーによる空冷
• 温度制御安定性：±1℃(P.I.D機能付きコントローラー)
• プロファイルステップ：デフォルト20ステップ
• 温度均一性：±5℃
• 熱電対：K型
• 温度制御：3点
• 温度測定：1点
• 最大加熱電力：40kW
• 代表的な絶縁電力：≤25kW
• 加熱速度：≤5℃/分
• 炉表面温度：≤40℃
• 最大真空値：≤10Pa
• 排気システム：上部にH2イグナイター付き排気ポート1つ
• アラームシステム：過熱、熱電対断線、低空気圧、低水圧、真空レベル不足などの場合に、可聴および視覚アラーム
• 重量：1500kg
• 外観色：ライトグレー
• 外形寸法：1650mm×1950mm×2000mm (W×H×D)

• 環境条件：温度：0～40℃、湿度≤80%RH、腐食性ガスなし、強い気流の乱れなし
• N2条件：99.999%純度、作動圧力：0.2-0.4MPa、最大ガス消費量2-6 m3/h
• H2条件：作動圧力：0.2-0.4MPa、最大ガス消費量1-3m3/h
• 圧縮空気条件：乾燥、清浄、無油、作動圧力：0.4-0.8MPa
• 水条件：清浄、腐食性水なし、作動圧力0.1-0.3MPa、3-9L/min
• 換気システム：ユーザーポンピングシステムへの非接触アクセス、ポンピング能力は15m3/h以上
• 地面要件：水平、明らかな振動なし、耐荷重> 500 kg/m2
• 電源条件(TBD)：容量> 55kVA、3相5線、電圧220/380V、周波数50Hz。活線：黄色、緑色、赤色、中性線：青色、アース線：黄緑色
• 設置場所：3000mm×2500mm×3000mm(D×W×H)、設置面積7.5m2以上