制御された大気 産業用オーブンのマッフル真空乾燥機 OEM

Chitherm Hpf190-03n 真空乾燥機 電気保持炉 755mm*1680mm*950mm 幅*高さ*奥行き 多様な乾燥用途向け

主に真空または制御された雰囲気環境下での電子部品の乾燥、脱バインダー、硬化に使用されます。

• 2.1 動作温度: RT~200℃
• 2.2 最高温度: 250℃
• 2.3 炉室材質: SUS304ステンレス鋼
• 2.4 断熱材: セラミックファイバー
• 2.5 チャンバー寸法: 500mm*700mm*550mm (幅*高さ*奥行き)
• 2.6 温度均一性: 加熱プレートの表面温度均一性: ±5℃以内 (200℃定温でテスト)
• 2.7 加熱素子: アルミニウム加熱プレート
• 2.8 加熱プレート数: 4
• 2.9 最大加熱電力: 4*1.5kW
• 2.10 加熱速度: ≤5℃/分
• 2.11 温度制御素子: 白金抵抗 (PT100)
• 2.12 温度制御ポイント: 4点
• 2.13 温度制御方法: サイクルゼロクロス制御
• 2.14 集中制御: タッチスクリーン + PLC集中制御
• 2.15 温度制御精度: ±1℃
• 2.16 究極真空: ≤50Pa
• 2.17 真空ポンプ運転時間: ≤30分 (大気圧から0.1mbarまで)
• 2.18 チャンバー耐圧: 0.1~1mbar (真空または大気圧下で動作可能)
• 2.19 真空アラーム: 設定された真空レベルが指定時間内に達成されない場合、アラームを発し、真空ポンプを停止します
• 2.20 アラーム保護: 過熱、モーター過負荷、および相逆転故障に対する可聴/視覚アラーム
• 2.21 ノイズレベル: ≤63dB
• 2.22 外装仕上げ: 高温スプレーコーティング、ライトグレー
• 2.23 全体寸法 (参考): 755mm*1680mm*950mm (幅*高さ*奥行き)

• 4.1 環境条件: 温度0~40℃、湿度≤80% RH、腐食性ガスなし、強い気流の乱れなし
• 4.2 ガス供給要件:
  • 高純度窒素 (プロセス保護ガス): 純度>99.999%、入口圧力0.1~0.2MPa
  • 乾燥、清浄、無油の圧縮空気 (パージガス): 入口圧力0.4~0.8MPa
• 4.3 換気システム: ユーザーの排気システムへの非接触接続、排気能力>10m³/h
• 4.4 床の要件: 水平面、最小限の振動、耐荷重>200kg/m²
• 4.5 電源: 容量>8kVA、三相五線式システム、AC380V、50Hz
• 4.6 設置スペース: 2000mm*2000mm*3000mm (奥行き*幅*高さ)、設置面積>4m²