HWF160-10NH タンク型制御大気炉のサプライヤー,酸素フリーシンタリングとライトアニールのための真空炉

1650*1950*2000mm W*H*D および高度な技術を備えた電気真空炉 Chitherm Hwf160-10nh

この炉は主に金属部品やHTCCパッケージのはんだ付けプロセス用に設計されており、脱炭、アニーリング、焼き入れ、スコーチ、硬化、熱分解などの他のプロセスにも使用できます。

• 定格温度：900℃
• 最高温度: 1100℃
• 雰囲気：N2、H2、加湿あり
• 酸素含有量：O2含有量分析計により測定
• マッフル材質：SUS310S
• マッフル寸法：φ750mm×900mm(d×D)
• チャンバー有効寸法：500×500×650mm(W×H×D)
• 積載方法: 手動、水平ガイドウェイ棚を介して
• 加熱方法: 抵抗線内蔵加熱プレート
• 冷却方式：ブロワーによる空冷
• 温度制御安定度：±1℃（PID機能付きコントローラ）
• プロファイルステップ: デフォルトの 20 ステップ
• 温度均一性: ±5℃
• 熱電対: タイプ K
• 温度制御：3点
• 温度測定：1点
• 最大。加熱出力: 40kW
• 通常の絶縁電力: ≤ 25kW
• 加熱速度: ≤ 5℃/分
• 炉表面温度: ≤ 40°C
• 最大真空値: ≤ 10Pa
• 排気システム: 上部に H2 イグナイター付き排気ポート 1 つ
• 警報システム: 過熱、熱電対の断線、低気圧、低水圧、標準以下の真空レベルなどの場合に音声および視覚警報を発します。
• 重量: 1500kg
• 外観の色: ライトグレー
• 外形寸法：1650mm×1950mm×2000mm（W×H×D）

• 環境条件：温度：0～40℃、湿度≦80%RH、腐食性ガスのないこと、強い風の流れの乱れのないこと
• N2 条件: 純度 99.999%、使用圧力: 0.2 ～ 0.4MPa、最大ガス消費量 2 ～ 6 m3/h
• H2条件：使用圧力：0.2～0.4MPa、最大ガス消費量1～3m3/h
• 圧縮空気条件：乾燥、清浄、オイルフリー、使用圧力：0.4～0.8MPa
• 水条件：清浄、腐食性水なし、使用圧力0.1～0.3MPa、3～9L/min
• 換気システム: ユーザーポンプシステムへの非接触アクセス、ポンプ能力は 15m3/h 以上
• 地面の要件: 水平、明らかな振動なし、耐荷重> 500 kg/m2
• 電源条件(未定): 容量 > 55kVA、三相 5 線、電圧 220/380V、周波数 50Hz。ファイヤーライン：黄、緑、赤、ゼロライン：青、アースライン：黄緑
• 設置場所：3000mm×2500mm×3000mm(D×W×H)、設置面積7.5m2以上