モデルHWF160-10NH 真空雰囲気ロータリーキルン、チャンバーサイズ500×500×650mm、最高温度1100℃、SUS310Sマッフル

電気真空炉 Chitherm HWF160-10NH、1650*1950*2000mm(幅*高さ*奥行) および先進技術

この炉は、主に金属部品のろう付けプロセスおよびHTCCパッケージ用に設計されており、脱炭、焼なまし、焼き入れ、焼き戻し、焼き戻し、熱分解などの他のプロセスにも使用できます。

• 定格温度: 900℃
• 最高温度: 1100℃
• 雰囲気: N2、H2、加湿付き
• 酸素含有量: O2含有量分析計で測定
• マッフル材質: SUS 310S
• マッフル寸法: φ750mm×900mm(直径×長さ)
• 有効チャンバー寸法: 500×500×650mm(幅×高さ×奥行)
• ロード方法: 手動、水平ガイドレール棚経由
• 加熱方法: 抵抗線組み込み加熱プレート
• 冷却方法: ブロワー付き空冷
• 温度制御安定性: ±1℃ (PID機能付きコントローラー)
• プロファイルステップ: デフォルト20ステップ
• 温度均一性: ±5℃
• 熱電対: Kタイプ
• 温度制御: 3点
• 温度測定: 1点
• 最大加熱電力: 40kW
• 典型的な絶縁電力: ≤25kW
• 加熱速度: ≤5℃/分
• 炉表面温度: ≤40℃
• 最大真空度: ≤10Pa
• 排気システム: 上部に1つの排気ポート、H2イグナイター付き
• アラームシステム: 過熱、熱電対断線、低気圧、低水圧、基準以下の真空レベルなどの場合に音と光のアラーム
• 重量: 1500kg
• 外観色: ライトグレー
• 外形寸法: 1650mm×1950mm×2000mm (幅×高さ×奥行)

• 環境条件: 温度: 0～40℃、湿度≤80%RH、腐食性ガスなし、強い気流の乱れなし
• N2条件: 純度99.999%、作動圧力: 0.2-0.4MPa、最大ガス消費量2-6 m3/h
• H2条件: 作動圧力: 0.2-0.4MPa、最大ガス消費量1-3m3/h
• 圧縮空気条件: 乾燥、清浄、無油、作動圧力: 0.4-0.8MPa
• 水条件: 清浄、腐食性水なし、作動圧力0.1-0.3MPa、3-9L/min
• 換気システム: ユーザーのポンプシステムに非接触で接続、ポンプ容量は15m3/h以上
• 接地要件: 水平、明らかな振動なし、耐荷重> 500 kg/m2
• 電源条件(TBD): 容量> 55kVA、3相5線、電圧220/380V、周波数50Hz。火線: 黄、緑、赤、ゼロ線: 青、接地線: 黄緑
• 設置場所: 3000mm×2500mm×3000mm(奥行×幅×高さ)、設置面積7.5m2以上

Hefei Chitherm Equipment Co., Ltd.は、高温、中温、低温の工業炉および実験炉の研究開発、設計、製造、販売、保守、サービスに従事する専門企業です。
当社の製品には、ベルファーネス、ボックスファーネス、熱風乾燥機、チューブファーネス、真空ファーネス、トロリーファーネス、ロータリーファーネスが含まれます。これらはすべて、先端セラミックス、積層造形、粉末冶金、新エネルギーなどの分野における科学研究および実験に広く使用されています。磁性材料、ハニカムセラミックス、アルミナセラミックス、ジルコニアセラミックス、CIM/MIM、リチウム電池の正極および負極材料の押出、焼結プロセス、およびその他のさまざまな新材料（予備焼成、押出、脱脂、焼成、乾燥、同時焼成、後焼成、ろう付け、硬化、セラミック金属化など）に適しています。
私たちは、顧客に対して責任ある態度を貫き、高品質の製品とサービスを提供します。顧客および友人からのサポート、理解、信頼のおかげで、当社のインテリジェント機器製造能力は継続的に向上しています。私たちは、世界中のエレクトロニクスおよび先端材料の急速な発展を支援するために、顧客と協力する用意があります。