Industriële vacuümoven HPF190-03N, uitdrogingsapparatuur bij lage temperatuur voor nieuwe energiematerialen

Chitherm Hpf190-03n Vacuümdroger Elektrische opslagoven 755mm*1680mm*950mm W*H*D voor veelzijdige droogtoepassingen

Voornamelijk gebruikt voor het drogen, ontbinden en hoeden van elektronische componenten in vacuüm- of gecontroleerde atmosfeeromgevingen.

• 2.1 Werktemperatuur: RT~200°C
• 2.2 Maximale temperatuur: 250°C
• 2.3 Materiaal van de ovenkamer: SUS304 roestvrij staal
• 2.4 Isolatie materiaal: keramische vezels
• 2.5 Afmetingen van de kamer: 500 mm*700 mm*550 mm (W*H*D)
• 2.6 Temperatuuruniformiteit: oppervlaktetemperatuuruniformiteit van verwarmingsplaten: binnen ±5°C (getest bij een constante temperatuur van 200°C)
• 2.7 Verwarmingselementen: verwarmingsplaten van aluminium
• 2.8 Aantal verwarmingsplaten: 4
• 2.9 Maximaal verwarmingsvermogen: 4*1,5 kW
• 2.10 Verwarmingssnelheid: ≤ 5°C/min
• 2.11 Temperatuurregelelement: Platinaweerstand (PT100)
• 2.12 Temperatuurcontrolepunten: 4 punten
• 2.13 Temperatuurregelmethode: controle van de cyclus met nulcrossing
• 2.14 Gecentraliseerde besturing: touchscreen + PLC gecentraliseerde besturing
• 2.15 Temperatuurregeling nauwkeurigheid: ±1°C
• 2.16 Ultieme vacuüm: ≤ 50 Pa
• 2.17 Vacuümpomptijd: ≤30 minuten (van atmosferische druk tot 0,1mbar)
• 2.18 Kamerdrukweerstand: 0,1 tot 1mbar (bruikbaar onder vacuüm of atmosferische druk)
• 2.19 Vacuümalarm: triggert een alarm en schakelt de vacuümpomp uit als het vooraf ingestelde vacuümniveau niet binnen de opgegeven tijd wordt bereikt.
• 2.20 Alarmbescherming: geluids-/visueel alarm voor overtemperatuur, overbelasting van de motor en falen van de faseomkering.
• 2.21 Geluidsniveau: ≤ 63 dB
• 2.22 Buitenafwerking: hoogtemperatuur-spraycoating, lichtgrijs
• 2.23 Algemene afmetingen (referentie): 755 mm*1680 mm*950 mm (W*H*D)

• 4.1 Omgevingsomstandigheden: Temperatuur 0°C tot 40°C, luchtvochtigheid ≤ 80% RH, geen corrosieve gassen, geen sterke verstoringen van de luchtstroom
• 4.2 Gasvoorzieningseisen:
  • Stikstof van hoge zuiverheid (procesbeschermingsgas): zuiverheid > 99,999%, inlaatdruk 0,1 tot 0,2 MPa
  • Droge, schone, olievrije perslucht (suiveringsgas): Inlaatdruk 0,4-0,8 MPa
• 4.3 Ventilatiesysteem: niet-contactverbinding met het uitlaatstelsel van de gebruiker, uitlaatcapaciteit > 10 m3/uur
• 4.4 Voorschriften voor vloeren: vlak oppervlak, minimale trillingen, draagvermogen > 200 kg/m2
• 4.5 Stroomvoorziening: capaciteit > 8 kVA, driefasig vijfdraad systeem, AC380V, 50 Hz
• 4.6 Installatieruimte: 2000 mm*2000 mm*3000 mm (diepte*breedte*hoogte), installatieruimte > 4 m2

Hefei Chitherm Equipment Co., Ltd. is een professionele onderneming die zich bezighoudt met onderzoek en ontwikkeling, ontwerp, productie, verkoop, onderhoud en service van hoge,industriële ovens met een gemiddelde en lage temperatuur en proefovens.

Onze producten omvatten belovens, doosovens, warmteluftdrogers, buizenovens, vacuümovens, trolleyovens en roterende ovens.Allemaal veel gebruikt in wetenschappelijk onderzoek en experimenten in geavanceerde keramiek., additieve vervaardiging, poedermetallurgie, nieuwe energie en andere velden.CIM/MIM, en positieve en negatieve elektrode materialen van lithiumbatterijen, alsook diverse andere nieuwe materialen zoals voorbrand, extrusie, ontvetten, branden, drogen, co-branden, nabranden,solderen, verharding, keramische metallisatie, enz.

We willen onze klanten verantwoordelijk behandelen en kwalitatief hoogwaardige producten en diensten leveren.En vertrouwen van onze klanten en vrienden dat onze intelligente apparatuur productie mogelijkheden blijven verbeterenWe zijn bereid samen te werken met klanten om de snelle ontwikkeling van electronis en geavanceerde materialen over de hele wereld te ondersteunen.