산업용 진공 오븐 HPF190-03N, 신에너지 소재의 저온 탈수 장비

Chitherm Hpf190-03n 진공 건조기 전기 보유 오븐 755mm*1680mm*950mm W*H*D 다재다능한 건조 응용 프로그램

주로 진공 또는 제어 된 대기 환경에서 전자 부품의 건조, 탈결합 및 완화에 사용됩니다.

• 2.1 작동 온도: RT~200°C
• 2최대 온도: 250°C
• 2.3 오븐 챔버 재료: SUS304 스테인리스 스틸
• 2.4 단열물질: 세라믹 섬유
• 2.5 방 크기: 500mm*700mm*550mm (W*H*D)
• 2.6 온도 균일성: 난방판의 표면 온도 균일성: ±5°C 내 (동온 200°C에서 시험)
• 2.7 난방요소: 알루미늄 난방판
• 2.8 난방판 수: 4
• 2.9 최대 난방 전력: 4*1.5kW
• 2.10 난방 속도: ≤5°C/min
• 2.11 온도 조절 요소: 플래티넘 저항 (PT100)
• 2.12 온도 조절점: 4점
• 2.13 온도 조절 방법: 주기의 제로 크로싱 제어
• 2.14 중앙 제어: 터치 스크린 + PLC 중앙 제어
• 2.15 온도 조절 정확도: ±1°C
• 2.16 최후 진공: ≤50Pa
• 2.17 진공 펌핑 시간: ≤30분 (대기 압력에서 0.1mbar까지)
• 2.18 챔버 압력 저항: 0.1~1mbar (실공 또는 대기 압력에서 작동)
• 2.19 진공 경보: 정해진 시간 내에 미리 설정된 진공 수준이 달성되지 않으면 진공 경보를 발사하고 진공 펌프를 끄는
• 2.20 경보 보호: 과온, 모터 과부하 및 단계 역전 장애에 대한 청각/시각 경보
• 2.21 노이즈 레벨: ≤63dB
• 2.22 외면: 고온 스프레이 코팅, 밝은 회색
• 2.23 전체 차원 ( 참조): 755mm*1680mm*950mm (W*H*D)

• 4.1 환경 조건: 온도 0~40°C, 습도 ≤80% RH, 부식 가스, 강한 공기 흐름 장애가 없습니다.
• 4.2 가스 공급 요구 사항:
  • 고순도 질소 (프로세스 보호가스): 순도 ≥99.999%, 입기 압력 0.1~0.2MPa
  • 건조하고 깨끗하고 기름이 없는 압축 공기 (정화 가스): 입구 압력 0.4~0.8MPa
• 4.3 환기 시스템: 사용자의 배기가스 시스템과의 접촉 없는 연결, 배기가스 용량 > 10m3/h
• 4.4 바닥 요구 사항: 평면, 최소한의 진동, 부하 운반 용량 > 200kg/m2
• 4.5 전원 공급 장치: 용량> 8kVA, 3단계 5선 시스템, AC380V, 50Hz
• 4.6 설치 공간: 2000mm*2000mm*3000mm (깊음*폭*높이), 설치 면적 >4m2

헤페이 Chitherm Equipment Co., Ltd는 연구 및 개발, 설계, 제조, 판매, 유지 보수 및 서비스에 종사하는 전문 기업입니다.중온도 및 저온도 산업용 오븐 및 실험용 오븐.

우리 제품에는 벨 오븐, 박스 오븐, 뜨거운 공기 건조기, 튜브 오븐, 진공 오븐, 트롤리 오븐, 로터리 오븐 등이 있습니다.모두 과학 연구와 첨단 세라믹 실험에 널리 사용됩니다., 첨가 제조, 분자 금속, 새로운 에너지 및 기타 분야. 진압, 자기 물질의 합금 과정, 꿀집 세라믹, 알루미나 세라믹, 지르코니아 세라믹,CIM/MIM, 리?? 배터리의 양성 및 음성 전극 재료, 그리고 각종 다른 새로운 재료들, 예를 들어 사전 연소, 진압, 탈지방, 연소, 건조, 공동 연소, 후연소,용접, 경화, 세라믹 금속화 등

우리는 고객에 대한 책임있는 태도를 고수하고 고품질의 제품과 서비스를 제공합니다.그리고 우리의 고객들과 친구들의 신뢰도 우리의 지능형 장비 제조 능력은 계속 개선전 세계 전자제품과 첨단 재료의 빠른 발전을 지원하기 위해 고객들과 협력하고자 합니다.