Forno a vácuo industrial HPF190-03N, Equipamento de desidratação a baixa temperatura para materiais de nova energia

Chitherm Hpf190-03n Secador de vácuo Forno de retenção elétrico 755mm*1680mm*950mm W*H*D para aplicações de secagem versáteis

Utilizado principalmente para secagem, desligação e cura de componentes eletrónicos em ambientes de vácuo ou atmosfera controlada.

• 2.1 Temperatura de funcionamento: RT~200°C
• 2.2 Temperatura máxima: 250°C
• 2.3 Material da câmara do forno: aço inoxidável SUS304
• 2.4 Material de isolamento: fibra cerâmica
• 2.5 Dimensões da câmara: 500 mm*700 mm*550 mm (W*H*D)
• 2.6 Uniformidade da temperatura: uniformidade da temperatura superficial das placas de aquecimento: no limite de ±5°C (ensaiado a uma temperatura constante de 200°C)
• 2.7 Elementos de aquecimento: Placas de aquecimento de alumínio
• 2.8 Número de placas de aquecimento: 4
• 2.9 Potência máxima de aquecimento: 4*1,5 kW
• 2.10 Taxa de aquecimento: ≤ 5°C/min
• 2.11 Elemento de controlo de temperatura: Resistência de platina (PT100)
• 2.12 Pontos de controlo de temperatura: 4 pontos
• 2.13 Método de controlo da temperatura: controlo de cruzamento zero do ciclo
• 2.14 Controle centralizado: ecrã táctil + controlo centralizado PLC
• 2.15 Precisão do controlo da temperatura: ±1°C
• 2.16 Vazio final: ≤ 50 Pa
• 2.17 Tempo de bombeamento a vácuo: ≤ 30 minutos (de pressão atmosférica a 0,1mbar)
• 2.18 Resistência à pressão da câmara: 0,1 a 1mbar (operável sob vácuo ou pressão atmosférica)
• 2.19 Alarme de vácuo: desencadeia um alarme e desliga a bomba de vácuo se o nível de vácuo pré-definido não for atingido no prazo especificado.
• 2.20 Protecções de alarme: alarmes sonoros/visuais para sobre-temperatura, sobrecarga do motor e falha da inversão de fase.
• 2.21 Nível de ruído: ≤ 63 dB
• 2.22 Revestimento exterior: revestimento por pulverização a alta temperatura, cinza claro
• 2.23 Dimensões globais (referência): 755 mm*1680 mm*950 mm (W*H*D)

• 4.1 Condições ambientais: temperatura 0 a 40°C, umidade ≤ 80% RH, ausência de gases corrosivos, não existem perturbações graves do fluxo de ar
• 4.2 Requisitos de abastecimento de gás:
  • Nitrogénio de alta pureza (gás protetor de processo): pureza > 99,999%, pressão de entrada 0,1 a 0,2 MPa
  • Ar comprimido seco, limpo e sem óleo (gás de depuração): pressão de entrada 0,4 a 0,8 MPa
• 4.3 Sistema de ventilação: ligação sem contacto ao sistema de escape do utilizador, capacidade de escape > 10 m3/h
• 4.4 Requisitos do piso: superfície plana, vibração mínima, capacidade de carga > 200 kg/m2
• 4.5 Fornecimento de energia: Capacidade > 8 kVA, sistema trifásico de cinco fios, AC380V, 50 Hz
• 4.6 Espaço de instalação: 2000 mm*2000 mm*3000 mm (profundidade*largura*altura), área de instalação > 4 m2

Hefei Chitherm Equipment Co., Ltd é uma empresa profissional envolvida na pesquisa e desenvolvimento, design, fabricação, vendas, manutenção e serviço de alta,Fornos industriais de média e baixa temperatura e fornos experimentais.

Os nossos produtos incluem fornos de sino, fornos de caixa, secadores de ar quente, fornos de tubo, fornos de vácuo, fornos de trolley e fornos rotativos.Todos os quais são amplamente utilizados em pesquisa científica e experimentação em cerâmica avançadaApto para extrusão, processo de sinterização de materiais magnéticos, cerâmica de honeycomb, cerâmica de alumínio, cerâmica de zircônio,CIM/MIM, e materiais de eletrodos positivos e negativos de baterias de lítio, bem como vários outros materiais novos, tais como pré-queima, extrusão, desengraçamento, queima, secagem, co-queima, pós-queima,soldação, curagem, metalização cerâmica, etc.

Insistimos numa atitude responsável para com os clientes e fornecemos produtos e serviços de alta qualidade.e confiança dos nossos clientes e amigos que as nossas capacidades de fabricação de equipamentos inteligentes continuam a melhorarEstamos dispostos a trabalhar com os clientes para apoiar o rápido desenvolvimento de electronis e materiais avançados em todo o mundo.