Forno sottovuoto industriale HPF190-03N, attrezzatura di disidratazione a bassa temperatura per materiali di nuova energia

Forno di mantenimento elettrico dell'essiccatore sotto vuoto Chitherm Hpf190-03n 755mm*1680mm*950mm L*A*P per applicazioni di essiccazione versatili

Utilizzato principalmente per l'essiccazione, il deceraggio e l'indurimento di componenti elettronici in ambienti sotto vuoto o ad atmosfera controllata.

• 2.1 Temperatura operativa: RT~200°C
• 2.2 Temperatura massima: 250°C
• 2.3 Materiale della camera del forno: acciaio inossidabile SUS304
• 2.4 Materiale isolante: fibra ceramica
• 2.5 Dimensioni della camera: 500 mm*700 mm*550 mm (L*A*P)
• 2.6 Uniformità della temperatura: Uniformità della temperatura superficiale delle piastre riscaldanti: entro ±5°C (testato a temperatura costante di 200°C)
• 2.7 Elementi riscaldanti: Piastre riscaldanti in alluminio
• 2.8 Numero di piastre riscaldanti: 4
• 2.9 Potenza di riscaldamento massima: 4*1,5 kW
• 2.10 Tasso di riscaldamento: ≤5°C/min
• 2.11 Elemento di controllo della temperatura: resistenza al platino (PT100)
• 2.12 Punti di controllo della temperatura: 4 punti
• 2.13 Metodo di controllo della temperatura: controllo del ciclo al passaggio per lo zero
• 2.14 Controllo centralizzato: Touch screen + controllo centralizzato PLC
• 2.15 Precisione del controllo della temperatura: ±1°C
• 2.16 Vuoto finale: ≤50Pa
• 2.17 Tempo di pompaggio del vuoto: ≤30 minuti (dalla pressione atmosferica a 0,1 mbar)
• 2.18 Resistenza alla pressione della camera: 0,1~1 mbar (utilizzabile sotto vuoto o pressione atmosferica)
• 2.19 Allarme vuoto: attiva un allarme e spegne la pompa del vuoto se il livello di vuoto preimpostato non viene raggiunto entro il tempo specificato
• 2.20 Protezioni allarmi: allarmi acustici/visivi per sovratemperatura, sovraccarico motore e guasto inversione di fase
• 2.21 Livello di rumore: ≤63 dB
• 2.22 Finitura esterna: rivestimento spray ad alta temperatura, grigio chiaro
• 2.23 Dimensioni complessive (riferimento): 755 mm*1680 mm*950 mm (L*A*P)

• 4.1 Condizioni ambientali: temperatura 0~40°C, umidità ≤80% RH, assenza di gas corrosivi, assenza di forti disturbi del flusso d'aria
• 4.2 Requisiti di fornitura di gas:
  • Azoto ad elevata purezza (gas protettivo del processo): purezza >99,999%, pressione in ingresso 0,1~0,2 MPa
  • Aria compressa secca, pulita e priva di olio (gas di spurgo): pressione di ingresso 0,4~0,8 MPa
• 4.3 Sistema di ventilazione: collegamento senza contatto al sistema di scarico dell'utente, capacità di scarico >10 m³/h
• 4.4 Requisiti del pavimento: superficie piana, vibrazioni minime, capacità di carico >200 kg/m²
• 4.5 Alimentazione: capacità >8kVA, sistema trifase a cinque fili, AC380V, 50Hz
• 4.6 Spazio di installazione: 2000 mm*2000 mm*3000 mm (profondità*larghezza*altezza), area di installazione >4m²

Hefei Chitherm Equipment Co., Ltd. è un'impresa professionale impegnata nella ricerca e sviluppo, progettazione, produzione, vendita, manutenzione e assistenza di forni industriali e forni sperimentali ad alta, media e bassa temperatura.

I nostri prodotti includono forni a campana, forni a scatola, essiccatore ad aria calda, forni tubolari, forni sottovuoto, forni a carrello e forni rotanti. Tutti ampiamente utilizzati nella ricerca scientifica e nella sperimentazione nel campo della ceramica avanzata, della produzione additiva, della metallurgia delle polveri, delle nuove energie e in altri campi. Adatto per l'estrusione, il processo di sinterizzazione di materiali magnetici, ceramiche a nido d'ape, ceramiche di allumina, ceramiche di zirconio, CIM/MIM e materiali per elettrodi positivi e negativi di batterie al litio, nonché vari altri nuovi materiali come pre-cottura, estrusione, sgrassaggio, cottura, essiccazione, co-cottura, post-cottura, saldatura, indurimento, metallizzazione ceramica, ecc.

Insistiamo su un atteggiamento responsabile nei confronti dei clienti e forniamo prodotti e servizi di alta qualità. È proprio grazie al supporto, alla comprensione e alla fiducia dei nostri clienti e amici che le nostre capacità di produzione di apparecchiature intelligenti continuano a migliorare. Siamo disposti a collaborare con i clienti per supportare il rapido sviluppo dell'elettronica e dei materiali avanzati in tutto il mondo.