Blog Tentang JTEKT Meluncurkan Tungku Vertikal Canggih untuk Produksi Semikonduktor

Dalam dunia manufaktur skala mikro yang presisi, pembuatan perangkat semikonduktor bergantung pada serangkaian proses termal yang ketat. Tungku vertikal, yang berfungsi sebagai peralatan inti dalam pemrosesan wafer, memainkan peran penting dalam tahap-tahap kritis seperti deposisi film tipis, anil, dan pengawetan resin. Dengan arsitektur vertikalnya yang khas dan kemampuan kontrol proses yang unggul, sistem ini telah menjadi komponen yang sangat diperlukan dalam lini produksi semikonduktor modern.

Tungku vertikal adalah sistem pemrosesan batch yang dirancang untuk fabrikasi perangkat semikonduktor, yang dicirikan oleh tabung kuarsa yang berorientasi vertikal. Wafer diposisikan di dalam perimeter tabung kuarsa dan menjalani proses pemanasan yang dikontrol secara presisi untuk menyelesaikan berbagai langkah manufaktur. Wafer dimuat ke atas wadah kuarsa, yang dimasukkan dan dikeluarkan dari bagian bawah tabung proses.

Desain ini meminimalkan pembentukan partikulat sekaligus memberikan keseragaman suhu dan kontrol atmosfer yang luar biasa, memastikan kualitas dan efisiensi pemrosesan wafer yang konsisten. Sistem penanganan wafer dan wadah otomatis selanjutnya meningkatkan throughput produksi.

Tungku horizontal tradisional menunjukkan keterbatasan saat memproses wafer yang lebih besar, seringkali menghasilkan ketebalan film yang tidak konsisten di seluruh batch dan permukaan wafer, bersama dengan kontaminasi partikulat dan pembentukan oksida asli. Selain itu, jejak mereka berkembang secara signifikan dengan meningkatnya ukuran wafer. Tungku vertikal secara efektif mengatasi tantangan ini, berkontribusi pada adopsi mereka yang luas dalam manufaktur semikonduktor.

Pengembangan sistem pemrosesan termal canggih berawal pada tahun 1970 ketika Tempress Jepang pertama kali memperkenalkan sistem perlakuan panas horizontal ke pasar peralatan semikonduktor. Inovasi berkelanjutan telah menghasilkan portofolio teknologi pemrosesan termal yang komprehensif yang telah berkontribusi secara signifikan pada kemajuan semikonduktor secara global.

• VF-5900 Tungku Vertikal Volume Tinggi 300mm: Dirancang untuk produksi massal wafer 300mm dengan throughput dan keseragaman tinggi. Mampu memproses 100 wafer per batch dengan 16 posisi penyimpanan FOUP, meningkatkan otomatisasi dan produktivitas. Aplikasi mencakup semikonduktor, perangkat daya SiC, MEMS, VCSEL, dan teknologi fotovoltaik.
• VF-5700 Tungku Vertikal Batch Kecil 300mm: Dioptimalkan untuk R&D wafer 300mm dan proses khusus, menangani 50 wafer per batch.
• VF-5300 Tungku Vertikal Volume Tinggi 8 inci: Cocok untuk produksi wafer 6 inci hingga 8 inci, memproses 150 wafer per batch dengan 20 posisi penyimpanan kaset.
• VF-5100 Tungku Vertikal Multi-Tujuan 8 inci: Konfigurasi fleksibel untuk wafer 4 inci hingga 8 inci, dengan kapasitas maksimum 150 wafer dan 4-8 posisi penyimpanan kaset.
• VF-3000 Sistem Batch Kecil Hemat Biaya 8 inci: Desain ringkas untuk pemrosesan wafer 4 inci hingga 8 inci, menangani hingga 50 wafer (8 inci) atau 75 wafer (4-6 inci) dengan penyimpanan kaset 4-8.
• VF-1000 Tungku Vertikal R&D Kompak: Untuk produksi skala kecil dan aplikasi penelitian, memproses hingga 25 wafer (maks 8 inci).
• VFS-4000 Tungku Vertikal Diameter Besar: Ruang proses yang diperluas untuk aplikasi khusus, menangani 20-25 wafer, terutama digunakan dalam manufaktur tampilan panel datar untuk proses termasuk anil kontak logam, sintering frit kaca, dan dehidrogenasi.

• Konfigurasi peralatan yang fleksibel dengan penempatan kabinet gas alternatif
• Dukungan untuk pemrosesan sumber cair atmosfer
• Kemampuan proses selenisasi/sulfurisasi
• Pemrosesan vakum berdiameter besar (G4+)
• Peralatan pertumbuhan nanotube karbon
• Penanganan wafer tipis (≥80μm)
• Dukungan wafer fan-out
• Substrat panel curing polyimide FPD besar
• Pemrosesan vakum basah dan kering dengan kontrol tekanan parsial oksigen
• Pembersihan in-situ menggunakan ClF3
• Sistem transfer batch kaset kuarsa
• Pemrosesan polisilikon planar (bebas gradien suhu)

Laboratorium demonstrasi dan pengujian canggih memungkinkan verifikasi proses dan evaluasi kinerja peralatan. Fasilitas ini mempertahankan kondisi ruang bersih kelas 10 atau lebih tinggi untuk secara akurat mensimulasikan lingkungan produksi, memungkinkan optimalisasi proses dan penyempurnaan parameter.

Kemajuan berkelanjutan dari teknologi tungku vertikal menunjukkan komitmen industri semikonduktor terhadap manufaktur presisi, dengan sistem pemrosesan termal memainkan peran yang semakin penting dalam memungkinkan fabrikasi perangkat generasi berikutnya di berbagai sektor teknologi.