Блог около JTEKT запускает передовые вертикальные печи для производства полупроводников

В высокоточном мире микромасштабного производства создание полупроводниковых приборов зависит от серии строгих термических процессов. Вертикальные печи, служащие основным оборудованием при обработке пластин, играют ключевую роль на критических этапах, таких как осаждение тонких пленок, отжиг и отверждение смолы. Благодаря своей отличительной вертикальной архитектуре и превосходным возможностям управления процессом, эти системы стали незаменимыми компонентами в современных производственных линиях полупроводников.

Вертикальная печь - это система пакетной обработки, предназначенная для изготовления полупроводниковых приборов, характеризующаяся вертикально ориентированной кварцевой трубкой. Пластины располагаются внутри периметра кварцевой трубки и подвергаются точно контролируемым процессам нагрева для завершения различных этапов производства. Пластины загружаются в кварцевые лодки, которые вставляются и извлекаются из нижней части технологической трубки.

Эта конструкция минимизирует образование частиц, обеспечивая исключительную температурную однородность и контроль атмосферы, что обеспечивает стабильное качество и эффективность обработки пластин. Автоматизированные системы обработки пластин и лодок дополнительно повышают производительность.

Традиционные горизонтальные печи имеют ограничения при обработке более крупных пластин, что часто приводит к неравномерной толщине пленки в партиях и на поверхности пластин, а также к загрязнению частицами и образованию оксида. Кроме того, их занимаемая площадь значительно увеличивается с увеличением размеров пластин. Вертикальные печи эффективно решают эти проблемы, что способствует их широкому распространению в производстве полупроводников.

Развитие передовых систем термической обработки восходит к 1970 году, когда Tempress Japan впервые представила системы горизонтальной термообработки на рынке полупроводникового оборудования. Непрерывные инновации привели к созданию комплексного портфеля технологий термической обработки, которые внесли значительный вклад в развитие полупроводников во всем мире.

• Высокопроизводительная вертикальная печь VF-5900 300 мм: Предназначена для массового производства пластин 300 мм с высокой производительностью и однородностью. Способна обрабатывать 100 пластин в партии с 16 позициями хранения FOUP, что повышает автоматизацию и производительность. Области применения охватывают полупроводники, силовые приборы SiC, MEMS, VCSEL и фотоэлектрические технологии.
• Вертикальная печь VF-5700 300 мм для небольших партий: Оптимизирована для исследований и разработок пластин 300 мм и специализированных процессов, обрабатывает 50 пластин в партии.
• Высокопроизводительная вертикальная печь VF-5300 8 дюймов: Подходит для производства пластин от 6 до 8 дюймов, обрабатывает 150 пластин в партии с 20 позициями хранения кассет.
• Многоцелевая вертикальная печь VF-5100 8 дюймов: Гибкая конфигурация для пластин от 4 до 8 дюймов с максимальной емкостью 150 пластин и 4-8 позициями хранения кассет.
• Экономичная система для небольших партий VF-3000 8 дюймов: Компактная конструкция для обработки пластин от 4 до 8 дюймов, обрабатывает до 50 пластин (8 дюймов) или 75 пластин (4-6 дюймов) с 4-8 кассетами для хранения.
• Компактная вертикальная печь VF-1000 для исследований и разработок: Для мелкосерийного производства и исследовательских приложений, обрабатывает до 25 пластин (макс. 8 дюймов).
• Вертикальная печь VFS-4000 большого диаметра: Расширенная технологическая камера для специализированных применений, обрабатывает 20-25 пластин, в основном используется в производстве плоских дисплеев для таких процессов, как отжиг металлических контактов, спекание стеклянной фритты и дегидрирование.

• Гибкие конфигурации оборудования с альтернативным размещением газового шкафа
• Поддержка обработки атмосферных жидких источников
• Возможности процессов селенизации/сульфуризации
• Вакуумная обработка большого диаметра (G4+)
• Оборудование для выращивания углеродных нанотрубок
• Обработка тонких пластин (≥80 мкм)
• Поддержка пластин Fan-out
• Большие подложки панелей отверждения полиимида FPD
• Влажная и сухая вакуумная обработка с контролем парциального давления кислорода
• Очистка in-situ с использованием ClF3
• Системы пакетной передачи кварцевых кассет
• Обработка плоского поликремния (без градиента температуры)

Передовые демонстрационные и испытательные лаборатории позволяют проводить проверку технологических процессов и оценку производительности оборудования. Эти объекты поддерживают условия чистоты класса 10 или выше для точного моделирования производственных сред, что позволяет оптимизировать процессы и уточнять параметры.

Постоянное развитие технологии вертикальных печей демонстрирует приверженность полупроводниковой промышленности точному производству, при этом системы термической обработки играют все более важную роль в обеспечении производства устройств следующего поколения в различных технологических секторах.