nouvelles de l'entreprise JTEKT lance des fours verticaux avancés pour la production de semi-conducteurs

Dans le monde de la fabrication à micro-échelle axée sur la précision, la création de dispositifs à semi-conducteurs repose sur une série de processus thermiques rigoureux. Les fours verticaux, qui servent d'équipement de base dans le traitement des plaquettes, jouent un rôle essentiel dans les étapes critiques telles que le dépôt de couches minces, le recuit et le durcissement des résines. Avec leur architecture verticale distinctive et leurs capacités supérieures de contrôle des processus, ces systèmes sont devenus des composants indispensables dans les chaînes de production modernes de semi-conducteurs.

Un four vertical est un système de traitement par lots conçu pour la fabrication de dispositifs à semi-conducteurs, caractérisé par son tube en quartz orienté verticalement. Les plaquettes sont positionnées à l'intérieur du périmètre du tube en quartz et subissent des processus de chauffage précisément contrôlés pour effectuer diverses étapes de fabrication. Les plaquettes sont chargées sur des supports en quartz, qui sont insérés et retirés du bas du tube de traitement.

Cette conception minimise la génération de particules tout en offrant une uniformité de température et un contrôle de l'atmosphère exceptionnels, garantissant une qualité et une efficacité constantes du traitement des plaquettes. Les systèmes automatisés de manipulation des plaquettes et des supports améliorent encore le débit de production.

Les fours horizontaux traditionnels présentent des limites lors du traitement de plaquettes plus grandes, ce qui entraîne souvent une épaisseur de film incohérente entre les lots et les surfaces des plaquettes, ainsi qu'une contamination particulaire et la formation d'oxyde natif. De plus, leur encombrement augmente considérablement avec l'augmentation de la taille des plaquettes. Les fours verticaux relèvent efficacement ces défis, ce qui contribue à leur adoption généralisée dans la fabrication de semi-conducteurs.

Le développement de systèmes de traitement thermique avancés remonte à 1970, lorsque Tempress Japan a introduit pour la première fois des systèmes de traitement thermique horizontaux sur le marché des équipements de semi-conducteurs. L'innovation continue a donné naissance à un portefeuille complet de technologies de traitement thermique qui ont considérablement contribué aux progrès des semi-conducteurs à l'échelle mondiale.

• Four vertical à haut volume VF-5900 300 mm : Conçu pour la production de masse de plaquettes de 300 mm avec un débit et une uniformité élevés. Capable de traiter 100 plaquettes par lot avec 16 positions de stockage FOUP, améliorant l'automatisation et la productivité. Les applications couvrent les semi-conducteurs, les dispositifs de puissance en SiC, les MEMS, les VCSEL et les technologies photovoltaïques.
• Four vertical à petit lot VF-5700 300 mm : Optimisé pour la R&D sur plaquettes de 300 mm et les processus spécialisés, traitant 50 plaquettes par lot.
• Four vertical à haut volume VF-5300 8 pouces : Adapté à la production de plaquettes de 6 à 8 pouces, traitant 150 plaquettes par lot avec 20 positions de stockage de cassettes.
• Four vertical polyvalent VF-5100 8 pouces : Configuration flexible pour les plaquettes de 4 à 8 pouces, avec une capacité maximale de 150 plaquettes et 4 à 8 positions de stockage de cassettes.
• Système à petit lot économique VF-3000 8 pouces : Conception compacte pour le traitement de plaquettes de 4 à 8 pouces, traitant jusqu'à 50 plaquettes (8 pouces) ou 75 plaquettes (4-6 pouces) avec 4 à 8 cassettes de stockage.
• Four vertical de R&D compact VF-1000 : Pour la production à petite échelle et les applications de recherche, traitant jusqu'à 25 plaquettes (max. 8 pouces).
• Four vertical grand diamètre VFS-4000 : Chambre de traitement élargie pour les applications spécialisées, traitant 20 à 25 plaquettes, principalement utilisé dans la fabrication d'écrans plats pour des processus tels que le recuit des contacts métalliques, le frittage de la fritte de verre et la déshydrogénation.

• Configurations d'équipement flexibles avec placement alternatif de l'armoire à gaz
• Prise en charge du traitement des sources liquides atmosphériques
• Capacités de traitement de sélénisation/sulfuration
• Traitement sous vide de grand diamètre (G4+)
• Équipement de croissance de nanotubes de carbone
• Manipulation de plaquettes minces (≥80μm)
• Support de plaquettes à éventail
• Substrats de panneaux de durcissement de polyimide FPD de grande taille
• Traitement sous vide humide et sec avec contrôle de la pression partielle d'oxygène
• Nettoyage in situ à l'aide de ClF3
• Systèmes de transfert de lots de cassettes en quartz
• Traitement du polysilicium planaire (sans gradient de température)

Des laboratoires de démonstration et d'essai avancés permettent la vérification des processus et l'évaluation des performances des équipements. Ces installations maintiennent des conditions de salle blanche de classe 10 ou supérieure pour simuler avec précision les environnements de production, ce qui permet d'optimiser les processus et d'affiner les paramètres.

L'avancement continu de la technologie des fours verticaux démontre l'engagement de l'industrie des semi-conducteurs envers la fabrication de précision, les systèmes de traitement thermique jouant un rôle de plus en plus vital pour permettre la fabrication de dispositifs de nouvelle génération dans de multiples secteurs technologiques.