माइक्रो-स्केल विनिर्माण की सटीकता-संचालित दुनिया में, सेमीकंडक्टर उपकरणों का निर्माण कई सख्त थर्मल प्रक्रियाओं पर निर्भर करता है। वर्टिकल फर्नेस, वेफर प्रोसेसिंग में मुख्य उपकरण के रूप में काम करते हैं, पतली-फिल्म जमाव, एनीलिंग और रेजिन क्योरिंग जैसे महत्वपूर्ण चरणों में एक महत्वपूर्ण भूमिका निभाते हैं। अपनी विशिष्ट ऊर्ध्वाधर वास्तुकला और बेहतर प्रक्रिया नियंत्रण क्षमताओं के साथ, ये सिस्टम आधुनिक सेमीकंडक्टर उत्पादन लाइनों में अपरिहार्य घटक बन गए हैं।
एक वर्टिकल फर्नेस एक बैच प्रोसेसिंग सिस्टम है जिसे सेमीकंडक्टर डिवाइस फैब्रिकेशन के लिए डिज़ाइन किया गया है, जो अपनी ऊर्ध्वाधर रूप से उन्मुख क्वार्ट्ज ट्यूब द्वारा विशेषता है। क्वार्ट्ज ट्यूब के परिधि के भीतर वेफर्स को रखा जाता है और विभिन्न विनिर्माण चरणों को पूरा करने के लिए सटीक रूप से नियंत्रित हीटिंग प्रक्रियाओं से गुजरते हैं। वेफर्स को क्वार्ट्ज नावों पर लोड किया जाता है, जिन्हें प्रक्रिया ट्यूब के नीचे से डाला और निकाला जाता है।
यह डिज़ाइन कण उत्पादन को कम करता है जबकि असाधारण तापमान एकरूपता और वायुमंडलीय नियंत्रण प्रदान करता है, जो सुसंगत वेफर प्रोसेसिंग गुणवत्ता और दक्षता सुनिश्चित करता है। स्वचालित वेफर और नाव हैंडलिंग सिस्टम उत्पादन थ्रूपुट को और बढ़ाते हैं।
पारंपरिक हॉरिजॉन्टल फर्नेस में बड़े वेफर्स को संसाधित करते समय सीमाएँ होती हैं, जिसके परिणामस्वरूप अक्सर बैचों और वेफर सतहों पर असंगत फिल्म मोटाई होती है, साथ ही कण संदूषण और मूल ऑक्साइड निर्माण होता है। इसके अतिरिक्त, वेफर के आकार बढ़ने के साथ उनका पदचिह्न काफी बढ़ जाता है। वर्टिकल फर्नेस इन चुनौतियों का प्रभावी ढंग से समाधान करते हैं, जिससे सेमीकंडक्टर विनिर्माण में उनके व्यापक रूप से अपनाने में योगदान होता है।
उन्नत थर्मल प्रोसेसिंग सिस्टम का विकास 1970 में वापस चला जाता है जब टेम्प्रस जापान ने पहली बार सेमीकंडक्टर उपकरण बाजार में हॉरिजॉन्टल हीट ट्रीटमेंट सिस्टम पेश किए थे। निरंतर नवाचार ने थर्मल प्रोसेसिंग तकनीकों का एक व्यापक पोर्टफोलियो तैयार किया है जिसने वैश्विक स्तर पर सेमीकंडक्टर प्रगति में महत्वपूर्ण योगदान दिया है।
| मॉडल | VF-5900 | VF-5700 | VF-5300 | VF-5100 | VF-3000 | VF-1000 | VFS-4000 |
|---|---|---|---|---|---|---|---|
| आयाम (W×D×H) | 1250×3200×3450 मिमी | 1250×2000×2850 मिमी | 900×2300×3300 मिमी | 1000×1950×3300 मिमी | 1200×1450×2610 मिमी | 1500×1000×2130 मिमी | कस्टम |
| यूनिफ़ॉर्म ज़ोन लंबाई | 1040 मिमी | 500 मिमी | 960 मिमी | 360-960 मिमी | ≤360 मिमी | ≤250 मिमी | कस्टम |
| वेफर का आकार | 300 मिमी | 300 मिमी | 6-8 इंच | 4-8 इंच | 4-8 इंच | ≤8 इंच | कस्टम |
| बैच क्षमता | 100 वेफर्स | 50 वेफर्स | 150 वेफर्स | अधिकतम 150 | अधिकतम 75 (8" के लिए 50) | ≤25 | 20-25 |
उन्नत प्रदर्शन और परीक्षण प्रयोगशालाएं प्रक्रिया सत्यापन और उपकरण प्रदर्शन मूल्यांकन को सक्षम करती हैं। ये सुविधाएं उत्पादन वातावरण का सटीक अनुकरण करने के लिए क्लास 10 या बेहतर क्लीनरूम स्थितियों को बनाए रखती हैं, जिससे प्रक्रिया अनुकूलन और पैरामीटर शोधन की अनुमति मिलती है।
वर्टिकल फर्नेस तकनीक की निरंतर प्रगति सेमीकंडक्टर उद्योग की सटीक विनिर्माण के प्रति प्रतिबद्धता को दर्शाती है, जिसमें थर्मल प्रोसेसिंग सिस्टम कई प्रौद्योगिकी क्षेत्रों में अगली पीढ़ी के डिवाइस फैब्रिकेशन को सक्षम करने में तेजी से महत्वपूर्ण भूमिका निभा रहे हैं।
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