noticias de la compañía sobre JTEKT lanza hornos verticales avanzados para la producción de semiconductores

En el mundo de la fabricación a microescala, impulsado por la precisión, la creación de dispositivos semiconductores se basa en una serie de procesos térmicos estrictos. Los hornos verticales, que sirven como equipos centrales en el procesamiento de obleas, desempeñan un papel fundamental en etapas críticas como la deposición de película delgada, el recocido y el curado de resina. Con su distintiva arquitectura vertical y sus capacidades superiores de control de procesos, estos sistemas se han convertido en componentes indispensables en las líneas de producción de semiconductores modernas.

Un horno vertical es un sistema de procesamiento por lotes diseñado para la fabricación de dispositivos semiconductores, caracterizado por su tubo de cuarzo de orientación vertical. Las obleas se colocan dentro del perímetro del tubo de cuarzo y se someten a procesos de calentamiento controlados con precisión para completar varias etapas de fabricación. Las obleas se cargan en barcos de cuarzo, que se insertan y se retiran de la parte inferior del tubo de proceso.

Este diseño minimiza la generación de partículas al tiempo que ofrece una uniformidad de temperatura y un control atmosférico excepcionales, lo que garantiza una calidad y eficiencia consistentes en el procesamiento de obleas. Los sistemas automatizados de manipulación de obleas y barcos mejoran aún más el rendimiento de la producción.

Los hornos horizontales tradicionales exhiben limitaciones al procesar obleas más grandes, lo que a menudo resulta en un grosor de película inconsistente entre lotes y superficies de obleas, junto con la contaminación por partículas y la formación de óxido nativo. Además, su huella se expande significativamente con el aumento del tamaño de las obleas. Los hornos verticales abordan eficazmente estos desafíos, lo que contribuye a su adopción generalizada en la fabricación de semiconductores.

El desarrollo de sistemas avanzados de procesamiento térmico se remonta a 1970, cuando Tempress Japan introdujo por primera vez sistemas de tratamiento térmico horizontal en el mercado de equipos de semiconductores. La innovación continua ha producido una cartera completa de tecnologías de procesamiento térmico que han contribuido significativamente a los avances de los semiconductores a nivel mundial.

• Horno vertical de alto volumen VF-5900 de 300 mm: Diseñado para la producción en masa de obleas de 300 mm con alto rendimiento y uniformidad. Capaz de procesar 100 obleas por lote con 16 posiciones de almacenamiento FOUP, lo que mejora la automatización y la productividad. Las aplicaciones abarcan semiconductores, dispositivos de potencia SiC, MEMS, VCSEL y tecnologías fotovoltaicas.
• Horno vertical de lotes pequeños VF-5700 de 300 mm: Optimizado para I+D de obleas de 300 mm y procesos especializados, que maneja 50 obleas por lote.
• Horno vertical de alto volumen VF-5300 de 8 pulgadas: Adecuado para la producción de obleas de 6 a 8 pulgadas, que procesa 150 obleas por lote con 20 posiciones de almacenamiento de casetes.
• Horno vertical multipropósito VF-5100 de 8 pulgadas: Configuración flexible para obleas de 4 a 8 pulgadas, con una capacidad máxima de 150 obleas y 4-8 posiciones de almacenamiento de casetes.
• Sistema de lotes pequeños rentable VF-3000 de 8 pulgadas: Diseño compacto para el procesamiento de obleas de 4 a 8 pulgadas, que maneja hasta 50 obleas (8 pulgadas) o 75 obleas (4-6 pulgadas) con 4-8 casetes de almacenamiento.
• Horno vertical de I+D compacto VF-1000: Para producción a pequeña escala y aplicaciones de investigación, que procesa hasta 25 obleas (máx. 8 pulgadas).
• Horno vertical de gran diámetro VFS-4000: Cámara de proceso ampliada para aplicaciones especializadas, que maneja 20-25 obleas, utilizada principalmente en la fabricación de pantallas planas para procesos que incluyen el recocido de contacto metálico, la sinterización de fritas de vidrio y la deshidrogenación.

• Configuraciones de equipos flexibles con colocación alternativa del armario de gases
• Soporte para el procesamiento de fuentes líquidas atmosféricas
• Capacidades de procesamiento de selenización/sulfuración
• Procesamiento al vacío de gran diámetro (G4+)
• Equipo de crecimiento de nanotubos de carbono
• Manipulación de obleas delgadas (≥80 μm)
• Soporte de obleas de salida de ventilador
• Sustratos de panel de curado de poliimida FPD grandes
• Procesamiento al vacío húmedo y seco con control de presión parcial de oxígeno
• Limpieza in situ con ClF3
• Sistemas de transferencia por lotes de casetes de cuarzo
• Procesamiento de polisilicio planar (sin gradiente de temperatura)

Los laboratorios avanzados de demostración y prueba permiten la verificación del proceso y la evaluación del rendimiento del equipo. Estas instalaciones mantienen condiciones de sala limpia de clase 10 o superior para simular con precisión los entornos de producción, lo que permite la optimización del proceso y el refinamiento de los parámetros.

El continuo avance de la tecnología de hornos verticales demuestra el compromiso de la industria de los semiconductores con la fabricación de precisión, con los sistemas de procesamiento térmico desempeñando un papel cada vez más vital para permitir la fabricación de dispositivos de próxima generación en múltiples sectores tecnológicos.